Кулер Dynatron S3 для LGA 4677, 1U, Top-Blower, 80 мм

Dynatron S3 — це активний кулер процесора типу Top-Blower, розроблений для серверних платформ із гніздом LGA 4677. Завдяки компактній висоті 1U він ідеально підходить для тонких корпусів та серверних шаф, забезпечуючи ефективне відведення тепла навіть у обмеженому просторі.

• Сумісність із гніздом LGA 4677
• Висота 1U для серверних корпусів
• Вентилятор 80 мм з PWM-керуванням
• Рівень шуму від 23.3 до 62.2 дБА
• MTBF вентилятора 70 000 годин
• Радіатор з міді 1100

Кулер Dynatron S3 спеціально адаптований для процесорів у роз'ємі LGA 4677. Конструкція Top-Blower дозволяє ефективно розсіювати тепло, що критично важливо для стабільної роботи серверів та робочих станцій під навантаженням. Це рішення гарантує оптимальну температуру процесора, запобігаючи перегріву та зниженню продуктивності.

Висота кулера становить лише 1U, що робить його сумісним із тонкими серверними корпусами та стійками. Такий форм-фактор дозволяє розміщувати обладнання щільно, економлячи місце в дата-центрах або серверних кімнатах. Компактність не впливає на якість охолодження завдяки продуманій геометрії радіатора та вентилятора.

Вентилятор діаметром 80 мм працює з рівнем шуму від 23.3 до 62.2 дБА, що дозволяє зберігати комфортний рівень тиші в офісних приміщеннях. Технологія PWM забезпечує автоматичну зміну швидкості обертання від 2000 до 8600 rpm залежно від температури процесора. Це дозволяє балансувати між максимальним потоком повітря та енергоефективністю.

Радіатор виготовлений з міді 1100 з основою парової камери, що забезпечує високу теплопровідність. Вентилятор на подвійному кульковому підшипнику має середній час безвідмовної роботи (MTBF) 70 000 годин. Кулер працює в широкому температурному діапазоні від -10°C до 65°C, що робить його придатним для різних умов експлуатації. Споживання енергії варіюється від 1.08 до 23.45 Вт при номінальній напрузі 12 В, а старт вентилятора можливий вже при 7 В. Такий діапазон дозволяє гнучко адаптувати систему охолодження до різних серверних конфігурацій та навантажень.