
| Виробник | Fujifilm |
|---|---|
| Країна виробник | Японія |
FUJIFILM Плівка рентгенівська технічна.
Області застосуванняОсобливості
Пленка с очень мелкой зернистостью и высококонтрастными частицами класса II ASTM подходит для дефектоскопии легких металлов с использованием низкоактивных источников излучения, а также для контроля объектов большой толщины с использованием высоковольтных источников рентгеновского излучения или гамма-излучения. При съемке высококонтрастных объектов продемонстрирован большой интервал экспозиции. Как правило, пленка IX100 используется в методах непосредственной экспозиции или со свинцовыми экранами.